电离室分类
电离室主要有两种类型：一种是记录单个辐射粒子的脉冲电离室，矩阵电离室，主要用于测量重带电粒子的能量和强度，其按照输出回路的参量，矩阵电离室厂家，脉冲电离室又可分为离子脉冲电离室和电子脉冲电离室。另一种是记录大量辐射粒子平均效应的电流电离室和累积效应的累计电离室，主要用于X、γ、中子的强度或通量、剂量或剂量率。它是剂量监测和反应堆控制的主要传感元件。
电离室离子复合
在脉冲式辐射场中，矩阵电离室报价，Ks的推导建议使用双电压法。这里需要假定剂量仪读数（M）和所使用的偏压（V）之间存在线性关系。M1和M2分别是偏压为V1和V2的剂量仪读数。其中，矩阵电离室价格，V1是常用偏压，V2小于V1，一般V1/v2≥3。此时，常压V1时的复合效应表达式为：
Ks=a0 a1（M1/M2） a2（M1/M2）2注意：因为Ks与剂量率相关，故测定时，应使用剂量率。
电离室测量方法
测量时需要在测量深度，距离测量用电离室3-4cm处放置参考电离室，用以修正测量电离室读数。
具体修正方法如下：
目前测量用剂量仪多为双（多）通道剂量仪（若使用的是单通道剂量仪，则可以同时使用两个单通道剂量仪进行测量，方法相同）。
一通道接测量电离室，第二通道接参考电离室。（假设电离室日常测量用偏压为 300V。）
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